半導體行業廢氣處理 中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分，在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。其廢氣的主體是VOCs，同時廢氣中還混合了HCl、氨、HF等危險污染物，分離和處理難度比較大。

耀先環境粉塵廢氣處理15年經驗

         半導體行業VOCs廢氣處理焚燒爐RTO技術工藝原理介紹：

         焚燒爐RTO技術工藝其原理是有機廢氣經過旋轉分配閥進入蓄熱室預熱，然后進入氧化室，加熱升溫到800℃以上使有機廢氣氧化分解成CO2和H2O；從而凈化廢氣，并回收廢氣分解時所釋放出來的熱量，廢氣分解效率高達99.5 %，熱利用效率達到95%以上。旋轉式RTO實現爐體和閥門的相對獨立，同時便于安裝與維護，結構緊湊，占地面積小。廢氣通過連續運轉的旋轉分配閥交替均勻引入，氣流順暢，出口波動范圍小，12個蓄熱室交替工作，節約設備能耗。旋轉式RTO是我公司在消化、吸收外技術的基礎上，采取“引進+積累+改進+創新”的方式，自主研發設計的一款有機廢氣治理設備。

         半導體行業廢氣處理焚燒爐RTO設備的優勢：

         1、設有安全泄溫閥，若燃燒室溫＞設置限值，泄溫閥開啟，確保安全溫度運轉；

         2、整套系統采用PLC全自動化控制技術，節能省力，實現無人控制、自動報警，安全可靠；

         3、設有泄爆口，若爐內壓力大幅度提升，泄爆口自動開啟，合理泄除壓力，確保正常運轉；

         4、多級安全防護系統，確保蓄熱焚燒爐設備系統安全穩定運行；

         5、壓力波動小，出口濃度波動小；

         6、占地面積小。

耀先環境粉塵廢氣處理經驗豐富效果佳

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